Integration af kunstig intelligens (KI) og maskinlæring i kreativt eller pædagogisk arbejde udgør en betydelig udfordring, især på grund af den høje tekniske viden og de omfattende programmeringsfærdigheder, der er nødvendige for effektiv brug. Dette kan føre til vanskeligheder, da KIs kompleksitet og tekniske natur afskrækker mange personer. Brugere uden teknisk baggrund har ofte problemer med at forstå og implementere disse avancerede teknologier i deres projekter. Derfor er det svært at bruge disse teknologier effektivt til at udvikle databaserede løsninger eller forfølge kreative, innovative tilgange. Desuden kan inddragelsen af KI i eksisterende processer væsentligt hæmmes af den høje læringskurve og de nødvendige programmeringsfærdigheders kompleksitet.

Runway ML tilbyder som værktøj muligheden for at integrere kunstig intelligens (KI) og maskinlæring brugervenligt og uden dybtgående teknisk viden. Det oversætter komplekse KI-processer til et forståeligt sprog og muliggør dermed en effektiv anvendelse af KI uden at kræve omfattende programmeringskundskaber. Med sin intuitive brugerflade letter Runway ML brugen af KI-baserede teknologier og sænker indgangsbarriererne betydeligt. Især kreative, innovatører og undervisere drager fordel af den effektive dataanalyse, der står til rådighed uden tidsspilde eller tekniske uklarheder. Dermed tilbyder værktøjet nøglen til at udvikle databaserede løsninger og følge kreative tilgange, selv for brugere uden teknisk baggrund. Således fjernes barriererne, og adgangen til KI-teknologier muliggøres inden for forskellige områder.